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RTEC 白光干涉儀+共聚焦一體機(jī)

簡(jiǎn)要描述：該儀器具備轉(zhuǎn)盤(pán)式針孔共聚焦和白光干涉兩種光學(xué)測(cè)量技術(shù)，用于各種材料/涂層/器件的高精度表面三維特征 測(cè)量，能夠測(cè)量從粗糙的到光滑的，堅(jiān)硬的到柔軟的，黏性的表面以及各種場(chǎng)合下難于測(cè)量的表面，適用于金屬材 料、非金屬材料、復(fù)合材料、薄膜、涂層、器件等各種各樣材料的表面微觀結(jié)構(gòu)特征的3D成像，提供各種粗糙度， 表面結(jié)構(gòu)的臺(tái)階高度，角度、體積、長(zhǎng)度、深度等多種數(shù)據(jù)的測(cè)試分析、相似特征的統(tǒng)計(jì)分析，輪廓提取等

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 產(chǎn)品資料：
  • 更新時(shí)間：2024-11-09
  • 訪  問(wèn)  量： 2649

詳細(xì)介紹

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高階軟件分析功能


全套的分析功能：


- 2D形貌、3D形貌、二進(jìn)制圖像、顯微圖像、等高線圖像。


- 提取區(qū)域、提取剖面、抽取邊界輪廓、將一個(gè)表面轉(zhuǎn)換為一個(gè)剖面系列、重新取樣、基準(zhǔn)面校平。


- 表面紋理與形狀參數(shù)如各種標(biāo)準(zhǔn)的面粗糙度、線粗糙度、距離&角度測(cè)量、臺(tái)階高度、面面角度差、方向&斜率。

- 圖形&紋理單元的檢測(cè)分析、顆粒&凸起&凹洞&空隙等特征統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)、分形分析、孔/磨痕的體積、波谷深度、紋 理方向、體積參數(shù)、切片分析。


- 可創(chuàng)建分析模板，只需導(dǎo)入數(shù)據(jù)文件，自動(dòng)生成測(cè)試報(bào)告。


- 滿足ISO 25178、ISO 4287、ASME B46.1、EUR 15178、ISO 16610-61、ISO 16610-62、ISO 16610-71等。


半導(dǎo)體方向的應(yīng)用-晶圓/芯片，MEMS,Mask,PCB,Microlens,絕緣層等

① 各種減薄、研磨、拋光之后的表面粗糙度、表面三維形貌、加工紋理、瑕疵的檢測(cè)


② 晶圓IC制造過(guò)程中各種微納結(jié)構(gòu)的三維形貌、臺(tái)階高度等三維尺寸、制造缺陷的檢測(cè)、以及光罩上的異物和瑕疵檢測(cè)


③ 薄膜的厚度、表面粗糙度及缺陷的測(cè)量


④ 表面機(jī)械損傷、表面冗余物的檢測(cè)




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